Über uns

Prof. Dr.-Ing. Dr. rer. nat. habil. Harald Schenk

Geschäftsführender Institutsleiter

Harald Schenk erhielt seinen Dr.-Ing. in Elektrotechnik an der Gerhard-Mercator-Universität Duisburg im Jahr 2000. Seit 2000 leitete er verschiedene Gruppen und Geschäftsfelder am Fraunhofer IPMS mit dem Schwerpunkt der Entwicklung von MEMS und deren Anwendung. Im Jahr 2004 wurde Harald Schenk zum stellvertretenden Institutsleiter des Fraunhofer IPMS ernannt. Im Jahr 2008 habilitierte er an der Brandenburgischen Technischen Universität (BTU) Cottbus auf dem Gebiet der Physik. Im Mai 2012 wurde er zum Professor für »Mikro- und Nanosysteme« an der BTU Cottbus ernannt. Im September 2013 wurde er zum Institutsleiter berufen.

Das Fraunhofer IPMS ist Ihr Forschungs- und Servicepartner auf dem Gebiet optischer Sensoren und Aktoren, ASICs, Mikrosysteme (MEMS / MOEMS) sowie Nanoelektronik.

Als eine von gegenwärtig 75 eigenständigen Einrichtungen der Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., der europaweit führenden Organisation für industrienahe Forschung, arbeiten wir mit mehr als 500 Mitarbeitenden gemeinsam mit Industrieunternehmen, Dienstleistungsunternehmen und der öffentlichen Hand an Projekten zum direkten Nutzen für Unternehmen und zum Vorteil der Gesellschaft. Das Fraunhofer IPMS ist Teil des Fraunhofer-Verbundes Mikroelektronik und engagiert sich in zahlreichen regionalen und internationalen Netzwerken der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik.

Um den hohen Ansprüchen unserer Kunden zu genügen, ist das Fraunhofer IPMS für Forschung, Entwicklung und Fertigung photonischer Mikrosysteme, die entsprechenden Halbleiter- und Mikrosystemprozesse, integrierte Aktorik/Sensorik und Beratung von der DEKRA nach der Norm DIN EN 9001:2015 zertifiziert.

Unser Institut ist an vier Standorten vertreten:

Der Hauptsitz befindet sich auf der Maria-Reiche-Straße 2 in Dresden-Klotzsche. Auf dem Gelände befindet sich ein 1500 m² großer MOEMS/MEMS-Reinraum (Klasse 4 nach ISO 14644-1), der für die Technologieentwicklung bis hin zur Pilotfertigung innovativer Mikrosysteme auf 200 mm genutzt werden kann. Das Leistungsangebot umfasst die Waferprozessierung, Charakterisierung & Test, Aufbau- und Verbindungstechnik sowie die Organisation von externen Dienst- und Zulieferleistungen.

Der Bereich »Center Nanoelectronic Technologies« verfügt über eine eigene Reinraum-Infrastruktur für die Prozess- und Materialentwicklung auf 300 mm Wafer mit der Außenstelle "An der Bartlake 5" in unmittelbarer Nähe zum Chipproduzenten Globalfoundries. Zur Bearbeitung der Kundenaufträge stehen auf 2700 m² Reinraumfläche der Klasse 6 und 3 (nach ISO 14644-1) sowie Laborflächen für über 80 Prozessierungs- und Analytiktools zur Verfügung. Der Anlagenpark umfasst unter anderem Abscheide- und Ätzanlagen sowie Inspektions- und Analysegeräte zum Bestimmen von Defekten und dem Messen von Schichteigenschaften.

Am Standort Cottbus arbeiten wir im Institutsteil »Integrated Silicon Systems« sowohl an monolithisch integrierten Aktor- und Sensorsystemen als auch an Terahertz-Mikromodulen und -Applikationen.

Im gemeinsam mit Fraunhofer IOF und IZI betriebenen Fraunhofer-Zentrum Erfurt liegt der Fokus auf neuartigen Systemen für Anwendungen in der Biomedizin.