Ferroelektrische Speicher

Ferroelektrische Speicher

© Fraunhofer IPMS
FRAM-Demonstrator mit ASIC auf PCB.

Ferroelektrische Speicher auf Hafniumoxidbasis gehören zu den vielversprechendsten neuen Technologien für künftige nichtflüchtige Speicheranwendungen mit sehr geringem Stromverbrauch. Daher entwickelt das Geschäftsfeld CNT des Fraunhofer IPMS vollständig CMOS-kompatible ferroelektrische (FE) Bauelemente auf Hafniumoxidbasis für die Integration in eine breite Palette von Chiptechnologien. Dieses innovative bleifreie Material ermöglicht die Herstellung kosteneffizienter und stromsparender CMOS-Chips.

Unsere F&E-Dienstleistungen

  • FE-Materialforschung und Speicherstapel-Prozessentwicklung
  • Wafer-Loop-Dienstleistungen mit Wafer-Fabs für den Transfer von FE-Stacks auf bestehende Technologieknoten
  • Entwicklung von innovativen Speicherbauelementen und Integrationskonzepten
  • Fortschrittliche physikalische und elektrische Charakterisierung von der Materialebene bis zum Megabit-Speicherarray
  • Schaltungsentwurf von Speicherteststrukturen und Speicherarrays
  • Systemdesign für In-Memory-Computing-Lösungen

Vorteile von ferroelektrischen Speichern

© Fraunhofer IPMS
Ferroelectric Memories am Fraunhofer IPMS.

Ferroelektrisches RAM (FeRAM)

  • FRAM auf Hafniumoxid-Basis
  • 10+ Jahre Speicherzuverlässigkeit
  • Schneller Lese-/Schreibbetrieb (Schaltgeschwindigkeit im ns-Bereich)
  • Ultra-niedriger Stromverbrauch und niedrige Spannung
  • Array-Design und Technologie-Integration

Ferroelektrischer FET (FeFET/FeMFET)FRAM

  • Sehr energieeffizientes und zerstörungsfreies Lesen
  • Geeignet für den Einsatz in hardwarebasierten neuromorphen Computerkonzepten
  • FEoL (FeFET) und BEoL (FeMFET) kompatible integrierte gn & Technologieintegration

Ferroelektrische Speicher für Low-Power-Systeme

Ferroelektische Speicher im Überblick.

Überall dort wo Daten verarbeitet werden, müssen diese Informationen oft auch abgelegt und gespeichert werden. Die starke Entwicklung hin zu vernetzten, intelligenten Systemen erfordert eine Datenverarbeitung und -speicherung bereits in dezentralen Sensorknoten. Wichtige Anforderungen hierfür sind niedriger Energieverbrauch bei gleichzeitig kurzen Schalt- und Reaktionszeiten. Im Geschäftsfeld Center Nanoelectronic Technologies (CNT) des Fraunhofer IPMS werden stromsparende, nichtflüchtige Speicher auf Basis von ferroelektrischem Hafniumoxid erforscht und auf CMOS-taugliche Halbleiterfertigungsprozesse für 200 mm und 300 mm Wafergrößen transferiert. Dadurch lassen sich FeFET- und FRAM-basierte Lösungen für Frontend- bzw. Backendintegration realisieren.

Im Gegensatz zu den bisher verwendeten perovskitbasierten  Materialien sind Hafniumoxid-basierte Speicher CMOS-kompatibel, bleifrei und bis hin zu sehr kleinen Technologieknoten skalierbar. Als einziges nichtflüchtiges Speicherkonzept werden ferroelektrische Speicher rein elektrostatisch betrieben und sind daher besonders stromsparend, da zum Schreiben von Daten nur noch die Umladeströme der Kapazitäten aufgewendet werden müssen. Neben dem Einsatz als reiner Datenspeicher eignen sich die ferroelektrischen Bauelemente auch für den Einsatz in hardwarebasierten neuromorphen Rechenkonzepten, wo es darauf ankommt, möglichst nah oder direkt mit den Speicherzellen Rechenoperationen durchzuführen.

Zur Materialentwicklung und Verbesserung der technologischen Prozesse besteht am CNT eine integrierte FeFET-Testroute, auf der zusammen mit Partnern und Kunden verschiedene Optimierungen und Entwicklungen zur Integration ferroelektrischer Materialien durchgeführt werden können. Dies ermöglicht die Weiterentwicklung neuer Konzepte sowie die fortlaufende Verbesserung der Leistungsparameter, wie beispielweise beim Stromverbrauch.

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Weitere Informationen:

 

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3DFerroKI

Hardware-basierte KI mit 3-dimenionalen ferroelektrischen Speichern

 

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FerroSAFE

Feldinduzierte Kristallisation für robuste Sicherheitsanwendungen

 

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Smart IR

KI-basierte Infrarotsensoren

 

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TO.QI

Halbleiter-Technologiemodule für Quantencomputing, KI und Internet-of-Things