Ferroelektrische Speicher
Ferroelektrische Speicher auf Hafniumoxidbasis gehören zu den vielversprechendsten neuen Technologien für künftige nichtflüchtige Speicheranwendungen mit sehr geringem Stromverbrauch. Daher entwickelt das Geschäftsfeld CNT des Fraunhofer IPMS vollständig CMOS-kompatible ferroelektrische (FE) Bauelemente auf Hafniumoxidbasis für die Integration in eine breite Palette von Chiptechnologien. Dieses innovative bleifreie Material ermöglicht die Herstellung kosteneffizienter und stromsparender CMOS-Chips.
Unsere F&E-Dienstleistungen
- FE-Materialforschung und Speicherstapel-Prozessentwicklung
- Wafer-Loop-Dienstleistungen mit Wafer-Fabs für den Transfer von FE-Stacks auf bestehende Technologieknoten
- Entwicklung von innovativen Speicherbauelementen und Integrationskonzepten
- Fortschrittliche physikalische und elektrische Charakterisierung von der Materialebene bis zum Megabit-Speicherarray
- Schaltungsentwurf von Speicherteststrukturen und Speicherarrays
- Systemdesign für In-Memory-Computing-Lösungen